UN ESTUDIO CON ESPECTROSCOPÍA RAMAN DE PELÍCULAS DELGADAS DE SILICIO MICROCRISTALINO DOPADO TIPO P

UN ESTUDIO CON ESPECTROSCOPÍA RAMAN DE PELÍCULAS DELGADAS DE SILICIO MICROCRISTALINO DOPADO TIPO P

Se estudian las propiedades estructurales, ópticas y eléctricas de películas delgadas microcristalinas de silicio tipo p, depositadas a muy baja temperatura en función de la concentración de diborano en los gases de reacción y de la naturaleza del sustrato. Las películas fueron depositadas; sobre vi...

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Título de la revista: Anales de la Asociación Física Argentina
Primer autor: S. B. Concari
Otros autores: R. H. Buitrago;
G. Risso;
M. Cutrera;
M. Battioni
Idioma: Español
Enlace del documento: https://anales.fisica.org.ar/journal/index.php/analesafa/article/view/915
Tipo de recurso: Documento de revista
Fuente: Anales de la Asociación Física Argentina; Vol 11, No 1 (Año 2000).
Entidad editora: Asociación Física Argentina
Derechos de uso: Reconocimiento - NoComercial (by-nc)
Materias: Ciencias Físicas e Ingeniería --> Física
Resumen: Se estudian las propiedades estructurales, ópticas y eléctricas de películas delgadas microcristalinas de silicio tipo p, depositadas a muy baja temperatura en función de la concentración de diborano en los gases de reacción y de la naturaleza del sustrato. Las películas fueron depositadas; sobre vidrio corning 7059, acero inoxidable y un óxido trasparente conductor (TCO) en un reactor tipo VHF-PECVD, capacitivamente acoplado, empleando como gas de plasma una mezcla de silano altamente diluido con hidrógeno, y diborano. Los espectros de dispersión Raman revelan un claro efecto de la concentración de boro sobre la fracción de cristalinidad, evidenciada por un pico asimétrico alrededor de los 520 cm-1, ajustable por dos picos lorentzianos. Uno de ellos (520 cm-1) se corresponde con la dispersión fonónica en modo transversal óptico (TO) del seno del material y el otro (~ 510 cm-1) es interpretado en términos de una distribución no homogénea de grano o contribución fonónica de superficie intergranular. A pesar de la baja temperatura de deposición, el boro en altas concentraciones induce la formación de cristales (fracción cristalina superior al 90 %), y aún en concentraciones bajas, fracciones cristalinas superiores al 40 %